氟化镁是广泛用于镀增透膜和其他膜层的唯一的低折射率材料。大家知道，用钨和钼舟以及电子射线可方便的使它蒸发。由实验表明，在冷的基片上真空淀积的氟化镁膜，其气孔率很大，因为其机械强度很小。为了提高氟化镁膜的强度，在过去采取的是将基片加热到300℃在蒸镀的方法。但是，在一系列条件下，当对表面精度要求特别高时，加热基片是不适宜的，甚至根部不能允许。因此，人们对于在冷的基片上镀制机械强度高的氟化镁膜，是很感兴趣的。
研究表明，氟化镁膜的多孔性与其化学计量组成的蒸发和凝结过程中遭到破坏有关。其在潮湿的大气中，这种多孔性的电介质膜会发生膨胀，在许多情况下，膜层被破坏。
通过研究减少氟的阴离子空穴数量并相应提高氟化镁膜层强度的新方法。这种方法是现在冷的基片上蒸镀氟化镁膜，并在四氟甲烷蒸气中，对它进行放点处理。氟化镁的几何厚度为1300nm，其以约60nm/min的速度进行蒸发。镀膜之后，随即经泄露器往真空室中通入全氟甲烷直到真空度降至10-2・・・10-3mmHg，对膜层进行放电处理10min。氟化镁膜层是镀在K8玻璃片上，同时也可镀在用电子束方法蒸镀的石英和二氧化锆底膜上。
膜层的机械强度用CM-55膜层强度测定仪测定，此外还进行了忍空气候试验其条件是相对湿度98%，温度40℃，时间为10昼夜。
由实验可以看出，在冷的基片上蒸镀并随后在全氟甲烷气氛中经过放点处理的氟化镁膜，具有高的机械强度和耐潮性能。
本次研究开拓了制备高强度的以氟化镁为基础的单层和多层增透膜和析光膜的可能性，因为这对其今后的发展具有很大的意义。
氟化镁是广泛用于镀增透膜和其他膜层的唯一的低折射率材料。大家知道，用钨和钼舟以及电子射线可方便的使它蒸发。由实验表明，在冷的基片上真空淀积的氟化镁膜，其气孔率很大，因为其机械强度很小。为了提高氟化镁膜的强度，在过去采取的是将基片加热到300℃在蒸镀的方法。但是，在一系列条件下，当对表面精度要求特别高时，加热基片是不适宜的，甚至根部不能允许。因此，人们对于在冷的基片上镀制机械强度高的氟化镁膜，是很感兴趣的。
研究表明，氟化镁膜的多孔性与其化学计量组成的蒸发和凝结过程中遭到破坏有关。其在潮湿的大气中，这种多孔性的电介质膜会发生膨胀，在许多情况下，膜层被破坏。
通过研究减少氟的阴离子空穴数量并相应提高氟化镁膜层强度的新方法。这种方法是现在冷的基片上蒸镀氟化镁膜，并在四氟甲烷蒸气中，对它进行放点处理。氟化镁的几何厚度为1300nm，其以约60nm/min的速度进行蒸发。镀膜之后，随即经泄露器往真空室中通入全氟甲烷直到真空度降至10-2・・・10-3mmHg，对膜层进行放电处理10min。氟化镁膜层是镀在K8玻璃片上，同时也可镀在用电子束方法蒸镀的石英和二氧化锆底膜上。
膜层的机械强度用CM-55膜层强度测定仪测定，此外还进行了忍空气候试验其条件是相对湿度98%，温度40℃，时间为10昼夜。
由实验可以看出，在冷的基片上蒸镀并随后在全氟甲烷气氛中经过放点处理的氟化镁膜，具有高的机械强度和耐潮性能。
本次研究开拓了制备高强度的以氟化镁为基础的单层和多层增透膜和析光膜的可能性，因为这对其今后的发展具有很大的意义。