真空蒸发镀膜是在真空室中加热蒸发容器中的原料，使其原子或者分子从表面气化逸出，形成蒸汽流，入射到固体（称为衬底或者基片）表面，凝结成薄膜的方法。它是真空镀膜技术中发展最早、应用最广的一种，特别是其中的热电阻蒸镀迄今已经有100多年的历史。近几十年来，由于电子束轰击蒸发、高频感应蒸发以及激光蒸发等技术以及氟化镁等新型材料在蒸发镀膜技术中的广泛运用，使这一技术更趋于完善，因此，真空蒸发镀膜在目前的镀膜技术中仍处于相当重要的地位。
尽管真空蒸镀设备构造简单、造价便宜、使用可靠，但在前人研究中没能较精确地控制蒸镀的薄膜厚度以达到增透膜的理想厚度，且多数厚度不均匀。因此，研究人员针对真空蒸镀氟化镁增透膜的理想厚度与其均匀性问题做了大量的实验研究与对比分析，在充分预熔蒸发原料、有效防止原料喷溅的基础上，从氟化镁原料状态、原料蒸镀质量、蒸发源与基片间距等方面，研究真空蒸镀的氟化镁薄膜的厚度与其均匀性控制的相关工艺问题，从而最大限度地发挥真空蒸镀的优势，制备出符合要求的氟化镁增透膜。
在其他的条件相同的情况下，不同状态的原料对增透膜性能会产生重要的影响，对于氟化镁增透膜，在实际蒸镀质量相同的情况下，用多晶颗粒原料蒸镀的薄膜增透性能优于粉末状的原料，因此要获得高性能的增透膜，首先应当选取合适的氟化镁原材料。（zc）真空蒸镀
氟化镁增透膜的厚度与均匀性控制
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氟化镁（MgF2）作为卤族元素氟和金属元素镁的化合物，化学式为MgF2，分子量为62.3018，自问世以来便以其独.
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真空蒸发镀膜是在真空室中加热蒸发容器中的原料，使其原子或者分子从表面气化逸出，形成蒸汽流，入射到固体（称为衬底或者基片）表面，凝结成薄膜的方法。它是真空镀膜技术中发展最早、应用最广的一种，特别是其中的热电阻蒸镀迄今已经有100多年的历史。近几十年来，由于电子束轰击蒸发、高频感应蒸发以及激光蒸发等技术以及氟化镁等新型材料在蒸发镀膜技术中的广泛运用，使这一技术更趋于完善，因此，真空蒸发镀膜在目前的镀膜技术中仍处于相当重要的地位。
尽管真空蒸镀设备构造简单、造价便宜、使用可靠，但在前人研究中没能较精确地控制蒸镀的薄膜厚度以达到增透膜的理想厚度，且多数厚度不均匀。因此，研究人员针对真空蒸镀氟化镁增透膜的理想厚度与其均匀性问题做了大量的实验研究与对比分析，在充分预熔蒸发原料、有效防止原料喷溅的基础上，从氟化镁原料状态、原料蒸镀质量、蒸发源与基片间距等方面，研究真空蒸镀的氟化镁薄膜的厚度与其均匀性控制的相关工艺问题，从而最大限度地发挥真空蒸镀的优势，制备出符合要求的氟化镁增透膜。
在其他的条件相同的情况下，不同状态的原料对增透膜性能会产生重要的影响，对于氟化镁增透膜，在实际蒸镀质量相同的情况下，用多晶颗粒原料蒸镀的薄膜增透性能优于粉末状的原料，因此要获得高性能的增透膜，首先应当选取合适的氟化镁原材料。（zc）