氟化铝的挥发可以分为直接挥发和间接挥发两种。
直接挥发是指氟化铝无液相，受热直接升华我气体，升华温度随着温度的升高逐渐增大，氟化铝的沸点温度大约为1260摄氏度，在此温度下，发生剧烈变化，直接挥发与槽温和添加方式有关。
间接挥发是指在电解质体系中，由于电解质的蒸发，而使氟化铝的消耗增大，在三元电解质体系下，易生成一些不稳定的物质，如单冰晶石等，再由其挥发或者分解。电解质温度对电解质蒸发的影响较大。氟化铝的挥发简析在化学和工业生产中，
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直接挥发是指氟化铝无液相，受热直接升华我气体，升华温度随着温度的升高逐渐增大，氟化铝的沸点温度大约为1260摄氏度，在此温度下，发生剧烈变化，直接挥发与槽温和添加方式有关。
间接挥发是指在电解质体系中，由于电解质的蒸发，而使氟化铝的消耗增大，在三元电解质体系下，易生成一些不稳定的物质，如单冰晶石等，再由其挥发或者分解。电解质温度对电解质蒸发的影响较大。