氟化镁增透膜具有折射率低、光学损耗低。透明波段管、膜层机械强度大和激光损伤阈值高等优异性能，因而被广泛应用与光学器件，尤其是紫外线光学器件，其作用是增加透射光的强度，使光学系统成像更加清晰。近年来，随着增透膜应用范围的不断拓宽以及薄膜制备方法和设备的改进，氟化镁增透膜性能特别是薄膜的强度和抗潮性能得到了很大的提高。
真空蒸发镀膜是在真空室中加热蒸发容器中的原料，使其原子或分子从表面气化逸出，形成蒸汽流，入射到固体表面，凝结成薄膜的方法。它是真空镀膜技术中发展最早、应用最广的一种，特别是其中的热电阻蒸镀迄今已经有100多年的历史。近几十年来，由于电子束轰击蒸发、高频感应蒸发以及激光蒸发等技术在蒸发镀膜技术中的广泛应用，使得这一类技术更趋于完美。因此，真空蒸发镀膜在目前的镀膜技术中仍处于相当重要的地位。
通过实验以及大量数据的分析，得出结论，在其他条件都相同的情况下，不同状态的原料对增透膜性能会产生重要的影响。对于氟化镁增透膜，在实际的蒸镀质量相同的情况下，用多晶颗粒状原料蒸镀的薄膜增投性能优于粉末状原料，因此要获得高性能的增透膜，首先应当选取合适的原材料。关于
氟化镁增透膜的研究
氟化镁（MgF₂）是一种重要的无机化合物，其独特的化学和物理性质使其在多个领域具有广泛应用。以下..
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氟化镁增透膜具有折射率低、光学损耗低。透明波段管、膜层机械强度大和激光损伤阈值高等优异性能，因而被广泛应用与光学器件，尤其是紫外线光学器件，其作用是增加透射光的强度，使光学系统成像更加清晰。近年来，随着增透膜应用范围的不断拓宽以及薄膜制备方法和设备的改进，氟化镁增透膜性能特别是薄膜的强度和抗潮性能得到了很大的提高。
真空蒸发镀膜是在真空室中加热蒸发容器中的原料，使其原子或分子从表面气化逸出，形成蒸汽流，入射到固体表面，凝结成薄膜的方法。它是真空镀膜技术中发展最早、应用最广的一种，特别是其中的热电阻蒸镀迄今已经有100多年的历史。近几十年来，由于电子束轰击蒸发、高频感应蒸发以及激光蒸发等技术在蒸发镀膜技术中的广泛应用，使得这一类技术更趋于完美。因此，真空蒸发镀膜在目前的镀膜技术中仍处于相当重要的地位。
通过实验以及大量数据的分析，得出结论，在其他条件都相同的情况下，不同状态的原料对增透膜性能会产生重要的影响。对于氟化镁增透膜，在实际的蒸镀质量相同的情况下，用多晶颗粒状原料蒸镀的薄膜增投性能优于粉末状原料，因此要获得高性能的增透膜，首先应当选取合适的原材料。