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热压多晶氟化镁的磁流变抛光分析
[时间:2019-03-27 14:26:14] [点击:6785] [分类:公司新闻]
随着现代科学技术的迅猛发展,特别是航空航天、国防军工、信息与微电子等尖端科学技术的突飞猛进,对红外光学材料的性能提出越来越高的要求,推动了红外光学材料的不断发展。其中,热压多晶氟化镁是最具代表性的一类红外光学晶体材料。
热压多晶氟化镁是由颗粒分布均匀、粒径适当的高纯氟化镁粉末经高温、高压加工而成的,具有良好的偏振作用,在中红外波段具有很高的透过率,在该波段热辐射、散射、双折射性能都较低等,是良好的红外光学材料。
热压多晶氛化镁具有机械强度高,力学性能好;热膨胀率低,耐高温,抗热冲击性强;耐酸碱腐蚀,耐海水、雨水侵蚀以及各向同性等诸多特点,可广泛用于红外整流罩、红外窗口,以及民用的红外探侧器。然而,通过实验研究发现,热压多晶氟化镁内部杂质较多,在传统的抛光中会不断地出现散射颗粒,获得较好的表面质量比较困难,热压多晶氟化镁的超精密加工已经成为制约其使用的主要因素。
磁流变抛光是新兴的一种先进光学制造技术,以其抛光效率高、剪切应力高、磨头无磨损、可实现确定性加工等优点而日益成为一种重要的光学精密加工技术。采用磁流变抛光技术对热压多晶氟化镁进行抛光,主要研究了热压多晶氟化镁磁流变抛光液的配制,并通过抛光实验获得了较好的抛光表面质量和较高的材料去除率。
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