粉末状氟化镁为结构松散的自然堆积体，颗粒之间存在大量的气孔，而且由于其含有大量的结晶水，在预熔和镀膜时水合氟化镁发生如下歧化反应：

ＭｇＦ２·Ｈ２Ｏ＝ＭｇＯ＋２ＨＦ
  气孔放气将会使其真空度骤降或产生喷溅，延长镀膜周期，降低膜层质量。而歧化反应将是导致膜层折射率偏离的根本原因。
  虽然压片状氟化镁冷压时排出了部分气孔，但由于没能从根本上消除气孔，并有少量结晶水存在，镀膜过程仍有放气、喷溅及成膜后折射率偏离现象。
  晶体氟化镁材料，从材料处理工艺上采用了真空低温预处理、高温脱气等过程，最大限度地排除了产生放气、喷溅和发生化学反应的内部原因，使镀膜条件和膜层质量得到优化。