氟化镁在常温下是一种无色晶体或粉末，无味，常温下难溶于水和乙醇，微融于弱酸，溶于强酸，如硝酸溶液。在电光下加热呈弱紫色荧光，氟化镁晶体具有良好的偏振作用，特别适用于紫外线和红外光谱。氟化镁具有毒性。氟化镁的通用制备方法是一份碳酸镁和两份氟化氢，在90到95摄氏度下自然反应，经过过滤、洗涤、干燥、粉碎等一系列的程序得到氟化镁成品。
    氟化镁在工业上应用十分广泛。比如，用作冶炼金属镁的时候的助熔剂、电解铝的添加剂、钛颜料的涂着剂、阴极射线屏的荧光材料、光学透镜镀膜等等。
    小编这篇文章就着力介绍一下不同工艺制备而来的氟化镁对真空镀膜是有怎么样 的不同的影响的。1、使用粉末状氟化镁制备，制成后经过低温脱水就直接用来镀膜。这种工艺只是脱去了氟化镁中的部分的部分水分，即吸附水和部分结晶水，因此，所得到材料任然还有部分结晶水。2、片状的氟化镁是水和氟化镁在常温之下经过压片机冷压粘结成型。经过500-600摄氏度粗真空条件下脱水、脱粘结剂再少之后的镀膜材料。3、晶体氟化镁材料制备。晶体氟化镁是把水合氟化镁在中真空、低真空度条件下逐渐升温脱水，然后再在高温1600摄氏度左右的真空脱气而熔炼成多晶或单晶体。单晶体或多晶体再加工成5-10mm颗粒用于镀膜。【编辑hongwei】